第22回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議 (MNC 2009)にて発表予定です【三菱化学】

2009年9月10日最新ニュース

弊社は同国際会議の展示会への出展に加え、同国際会議において次世代ナノリソグラフィ関連材料として期待されているフラーレンの研究成果につき、(株)半導体先端テクノロジーズ（Selete）殿と三菱化学(株)の共同及び三菱化学(株)として以下発表をする予定です。
多くの皆様のご来場をお待ちしております。

日程：	2009年11月16日(月)～11月19日(木)（発表は18，19日です）
会場：	シェラトンホテル札幌〒004-0052 札幌市厚別区厚別中央２条５丁目５－２５ TEL:011-895-8811 FAX:011-895-8820
題目：	１，講演番号：19C-10-2（11月19日）　　Development of Positive-Tone Molecular Resists based on Fullerene Derivatives for EUV Lithography 　　※(株)半導体先端テクノロジーズ（Selete）老泉様ご発表の予定です。　　本発表は三菱化学(株)との共同研究の成果です。２，講演番号：18D-7-24（11月18日）　　Molecular Resists based on Fullerene Derivatives 　　※三菱化学(株)田中氏がポスターセッションにて発表します。
同国際会議HP：	http://imnc.jp/
その他：	参加お申し込み、お問い合わせ先は、上記HPをご参照下さい